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納米光刻是一種全新的納米圖形復(fù)制方法，實質(zhì)是將傳統(tǒng)的模具復(fù)型原理應(yīng)用到微觀制造領(lǐng)域。首先計算機將BMP圖轉(zhuǎn)化成灰度圖，然后再通過二維掃描臺，帶動鍍膜鏡片對讀取的圖像信息進行優(yōu)化，同時控制激光器及掃描臺，完成圖像的納米定位加工。納米光刻技術(shù)是制作納米結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵，具有廣闊的應(yīng)用前景。

利用芯明天P12系列XY二維掃描臺，可帶動鍍膜鏡片對讀取的圖像信息進行優(yōu)化，同時控制激光器及掃描臺，二者配合完成圖像的納米精度加工。

P12.XY100二維壓電掃描臺

P12.XY100為二維直線掃描臺，內(nèi)置高可靠性壓電陶瓷，運動直線性好，臺體中心圓形通孔孔徑可選25mm 或35mm，滿足精密加工、掃描顯微等應(yīng)用。

開/閉環(huán)曲線

注：施加至壓電陶瓷的電壓約為輸入控制電壓的12倍。

閉環(huán)線性度

技術(shù)參數(shù)

型號：P12.XY100

運動自由度：X、Y

行程范圍@120V：80μm/軸

行程范圍@150V：100μm/軸

閉環(huán)傳感器：SGS

通孔尺寸：Ø25/Ø35mm

閉/開環(huán)分辨率：7/4nm

閉環(huán)線性度：0.1%F.S.

閉環(huán)重復(fù)定位精度：0.05%F.S.

推/拉力：25/8N

剛度：0.2N/μm

空載諧振頻率：X180/Y230Hz

閉/開環(huán)空載階躍時間：15/0.8ms

承載：0.7kg

靜電容量：1.8μF/軸

材質(zhì)：鋼、鋁

重量：200g